Os investigadores da IBM dizem ter dado mais um passo na miniaturização dos processadores ao desenvolver uma técnica que lhe permitiu produzir protótipos de 29,9 nanómetros, quando o recorde anterior se situava nos 32,5 nanómetros.



Denominada "litografia óptica" a nova técnica de produção garante a precisão de chips com semicondutores de até 30 nanómetros de espessura, diz a IBM. Saliente-se que actualmente os processadores estão a ser produzidos com tecnologia de 65 nanómetros.



O novo método da Big Blue envolve o uso de dois lasers de precisão para a "inscrição" do processador, em vez de apenas um, tornando assim as linhas mais nítidas. No lugar da água, o chamado processo de imersão foi realizado com um líquido de menor índice de refracção, o que permitiu reduzir a dimensão da onda do raio de luz e torná-lo mais preciso.



O processo de litografia óptica dará continuidade à Lei de Moore, que prevê que a quantidade de transistores que podem ser colocados numa pastilha de silício duplique a cada 18 meses. Formulada em 1965, a máxima da Intel manteve-se praticamente constante nas últimas décadas, tendo chegado perto do limite nos últimos dois anos devido às escalas cada vez mais reduzidas dos condutores, o que resultaria em problemas de dissipação de calor e instabilidade nos processadores.



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